标题：TEM材料显微镜-分辨率约在10nm,最佳可达2-3nm
信息分类:站内新闻
作者:yiyi发布
时间:2013-1-18 23:34:59
将本页加入收藏
下一篇：冶金、地质、矿物材料显微镜-专业金相分析仪器
上一篇：金相试验观察金属及合金内部组织显微结构影像
点击查看产品参数和报价--丨--
---
---
---
正文:
TEM材料显微镜-分辨率约在10nm，最佳可达2-3nm
常用的TEM的电子加速电压为50～100keV，分辨率约在10nm，最佳可达2-3nm。
但由于试片制作不易与缺乏应用的动机，因此鲜少为科学研究者使用
Heidenreich成功制备铝及铝合金薄膜之穿透式电子显微镜试片，观察微结构之像对比并成功
以电子绕射原理加以解释，使TEM在材料科学研究上逐渐显出其重要性。并且加上试片研磨技术的提升；
TEM解析度的提高；晶体缺陷的电子绕射成像对比理论的发展；
试片在电子显微镜中之倾斜、旋转等装置的进步；
电磁透镜聚焦能力的提升，使TEM在科学的研究领域中才被广泛的使用
出自http://www.bjsgyq.com/北京显微镜百科