标题：干刻蚀技术改善玻璃表面清洁度分析显微镜
信息分类:站内新闻
作者:yiyi发布
时间:2018-9-30 0:41:27
将本页加入收藏
下一篇：圆片制作各种图形对测量设备的要求是不同的
上一篇：硼硅酸盐玻璃的熔体温度实验样品分析显微镜
点击查看产品参数和报价--丨--
---
---
---
正文:
干刻蚀技术改善玻璃表面清洁度分析显微镜
湿法腐蚀和干法刻蚀的关系
早期的千法刻蚀技术不够稳定，而且刻蚀均匀性差，重复性也差，所
以湿法腐蚀得到了广范的应用。但是近年来湿法腐蚀的同有的缺点越来越
突出，再加上干刻蚀技术的不断提高和完善，使干法刻蚀技术越来越受
到人们的青睐。生产中湿法腐蚀的主要问题是腐蚀液对净化室区域的腐蚀
和对人类健康的影响。毒气的处理、废液的排放、腐蚀用的丁夹具及设备
一化学试剂等都提高了湿法腐蚀的成本。同时还要受到攻府安全部门和环
境污染保护部门的干涉。根据这些原因，使人们的注意力逐渐转向干法刻
蚀技术。等离予刻蚀技术不仅工艺简单，而且刻蚀分辨率高，无钻蚀现象
，对生产环境的影响也较小。另外，干法刻蚀还可以用来作为掩膜版玻璃
的预处理，提高和改善玻璃表面的清洁度，增加涂敷层与玻璃的结合力．
等离子体刻蚀设备的改进和技术的改善提高了刻蚀的均匀性，特别在
正性抗蚀剂工艺中对分辨率的提高更为明显。干法等离子体刻蚀的主要优
点包括；1．刻蚀后去胶方便，2．可省略后烘工艺，3．分辨率增加，边缘
陡直；4．均匀性在-I-l～2％之间；5．提高了器件的电气均匀性(阈值电
压)，6．刻蚀和去胶可同时进行，7．与湿法腐蚀比较，有利于生态环境保
护和生产安全。
千法刻蚀最主要的优点是提高了刻蚀分辨率。对小予1“m的线条，用
湿法刻蚀方法极其困难，而对干法刻蚀来说却极为方便。过去有许多技术
问题限制于千法刻蚀技术的应用，然而近年来经过人们的不断研究，已经
克服了干刻技术静缺点，充分显示了干法刻蚀技术的优越性。与湿法刻蚀
比较；干法刻蚀相对来说比较安全。当然，于溶刻蚀过程中也会排出一些
有害气体
出自http://www.bjsgyq.com/北京显微镜百科