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正文:
模拟方法可用来详细研究压印工艺各步骤的顺序利用这一方法对热
纳米压印光刻中的缺陷进行了分析,并研究了聚合物薄膜变形过程
的动力学问题。他们研究发现,采用该方法的模拟结果和实验结果
非常一致。他们采用数值分析准确地辨认出了聚合物拐角处附近的
一个应力集中点。该应力集中点是在温度低于t时对聚合物施加压
印压力所造成的,且这一应力集中点导致了聚合物在后续的模具分
离步骤中破裂等缺陷。现已证明,在各种几何尺寸与压力条件下,
对抗变形过程进行分析得到的聚合物横截面轮廓模拟结果与实验结
果非常吻合,两者在数值上非常一致。
对电沉积工艺进行数值模拟十分具有挑战性,因为研究人员必
须对一个耦合非线性方程组系统进行求解。在不同物理状况下,其
控制方程组会发生变化,这使得模拟工作更加复杂。例如,沉积电
流会随着一次、二次、三次或者扩散限制状态而变化。此外
,对作为沉积驱动力的电极动力学进行表征至关重要。但是,反应
离子在紧邻沉积界面的区域的聚集和电极表面的超电动势会影响电
极动力学性能,并使其表征更加复杂。
因此,电沉积工艺过程的控制方程可能包括所有的动量方程、
热力方程、浓度方程和电动势方程,或者是上述方程的任何组合,
而且电沉积工艺过程中电子的迁移和传送和电极表面的反应速率边
界条件(这点更重要)会使这些方程存在不同
出自http://www.bjsgyq.com/
北京显微镜百科