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正文:
腐蚀坑略
粗略地确定晶面.但它最有用的地方是可以相当容易地确定薄的
晶片平面内的晶向(这件事利用其它办法是不容易解决的).腐蚀
坑技术的应用,关键在于要有选择性很强的腐蚀剂,它能择优地显
露某个方向.对于金刚石和闪锌矿结构型的晶体,专门用于
面的腐蚀剂是易于得到的并已被广泛应用.采用这类腐蚀剂时,
如果晶体表面原来就接近于面,应腐蚀出在表面有三条边的
小的倒置的三棱锥(正四面体)形的腐蚀坑;对于面,则产生
四边形的棱锥;则形成金刚钻形的腐蚀坑.
中示出了这些表面腐蚀图形以及它们的晶向方位和相对尺度∞1.
适用于位错腐蚀坑研究的腐蚀剂也能用于定向工作,因为获得显
示得很好的腐蚀坑(不管它的来源如何)是首要条件.许多特定的
腐蚀剂配方都列表在第2章中,以供读者参考,也可参考专门用于
光学定向的腐蚀剂.除了常用的含水的腐蚀剂外,很多熔融
金属也能产生清晰完整的腐蚀坑.对于半导体器件,若将其接触材料
去除,常可发现足够多的微小合金点,并可由此定出原始晶片的取
向.缓慢的蒸发(热腐蚀)和各种高温气相反应也能给出对定向
看到.否则就需要进行腐蚀.但即使经过腐蚀
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出自http://www.bjsgyq.com/
北京显微镜百科