标题:光刻、印刷等工艺样品平整度及表面粗糙度测量仪

信息分类:站内新闻   作者:yiyi发布   时间:2015-4-2 12:15:45 将本页加入收藏

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正文:

光刻、印刷等工艺样品平整度及表面粗糙度测量仪

基片平整度

  基片的平整度对安置掩模、光刻、印刷等工艺有直接影响。如果基片
不平整,则通过这些工艺得到的图案会偏离原设计形状,并且随批量而
不同,这就是直接影响到生产的是一致性,这种现象对于精密电阻网络
和各种细线工艺影响特别严重。
    混合集成电路对基片的要求
  基片在电路中的作用
  在混合集成电路中,基片起着承载薄厚膜元件,互连、外贴元件和器
件以及包封等作用,在大功率电路中,基片还有散热的作用。
  在通常的混合电路中,薄厚膜阻容元件,互连导电带等是直接淀积在
基片上的,而一些外贴的阻容元件,晶体管、半导体集成电路等,则按
照电路设计被“贴”在基片是的一定部位,从而成为混合集成电路,然
后再封装。

  在混合集成电路中,基片是直接与薄膜元件相接触的,因此基片本身
的性质,对混合集成电路的性能,特别是可靠性和生产中可重复性等关
系非常密切,在混合集成电路生产中,基片通常是外购的,对于混合集
合电路的设计者和制造者来说,关键在于怎样选择、正确应用和充分发
挥基片材料的特性,使得制造出的电路既稳定可靠,又成本便宜。











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