标题：集成电路图形尺寸检测金相显微镜制造厂商
信息分类:站内新闻
作者:yiyi发布
时间:2014-12-8 1:50:00
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正文:
集成电路图形尺寸检测金相显微镜制造厂商
集成电路技术的基础建立在对图形再生和转换过程的控制
上。流过集成电路的电子，只有受到很精确尺寸的通道和“墙”
的控制，才能正常工作。一旦这些关键尺寸发生很小的偏离，电
路就不能正常工作。因此从本质上来说，微电子科学本身与能否
产生预期的图形尺寸密切相关。由于图形全部是微细的，因此必
须使用微细测量技术。超大规模集成电路的尺寸一般都在亚微米
级以下，这时使用光学显微镜就不能得到正确的结果，而只有像扫
描电子显微镜(SEM)一类的高能束设备才能实施微米和亚微
米图形的测量。随着图形尺寸的减小，集成电路掩膜和圆片制作
工程师面临的关键问题之一就是如何改善测量技术。
测量技术和测量设备。各种不同类型的设备可以造成对同一套
掩膜的不同侧量结果，此外不同操作者也可造成测量的可变性。
在同一天里，同一个操作者用同一个测量设备对同一个掩膜上的同
一元素进行多次测量，也可能得到不同的结果，这种情况是人人皆知的。
可以想象，不同的操作者使用不同的测量设备对不同的掩膜进行测量
将会造成多大的不一致性，
随着图形尺寸的缩小，越来越需要排除操作者的主观因素，
但也不能把全部问题归咎于操作者，像差、衍射以及其他光学变
化都能经过显微镜造成空间像的变化。衍射将在铬图形边缘造成
明显的花纹，形成线条边缘由暗到明的过渡，这种类似于光学系
统中的爱里斑(它的直径受衍射限制)的过渡区必须使用光学阀来
测量。一个光学系统中，在0.65的数值孔径中有直径为1.0微米的
爱里圆斑。
出自http://www.bjsgyq.com/北京显微镜百科