标题：包装工序中样品划痕显微镜检验仪器-颗粒分析
信息分类:站内新闻
作者:yiyi发布
时间:2014-12-8 1:50:16
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正文:
包装工序中样品划痕显微镜检验仪器-颗粒分析
光刻胶也适用于干法刻蚀条件，而不必增加工艺步骤。.在干法刻
蚀的情况下，采用较短波长的成像技术就成为取得超大规模集成
电路较高分辨率的一种简单方法。
保护膜在防止颗粒玷污中的作用
使用保护膜的目的是为了防止可能降落到初缩和精缩掩膜版
上的颗粒杂质或其他空气中的杂质，从而降低对初缩和精缩掩膜
版本身的清洗要求。只有当保护膜遭到损坏时，才需要将保护膜
从掩膜版上取下进行更换。
在显微镜检验和其他检验方法中，会引起掩膜版的损伤，从
而降低掩膜版的质量。在所有的标准曝光操作过程中，保护膜是
始终与掩膜版枯附在一起的。保护膜本身也有一个清洗的问题，
可以用经过过滤的、干燥的氮气吹干或用超净去离子水冲洗来除
去落到保护膜表面上的灰尘、脏物和其他杂质。假如保护膜受到
很严重的沽污或物理损伤，那就必须从掩膜版上取下，经过清洗
后再装到掩膜版上，或者装上一个新的保护膜。
为了保证掩膜版表面受到最少的沾污，供应掩膜版的厂商最
好是将保护膜作为一个附件，在掩膜版包装工序中，将保护膜安装
到清洗极好的、没有颗粒沽污的、没有缺陷的精缩和初缩掩膜版
上，·然后掩膜版和保护膜一起作为一个组件进行装运。进入圆片
生产线之后，在进入任何设备之前，应在最洁净的环境下拆卸，
这样就可以大大降低掩膜版与保护膜之间嵌入颗粒杂质的可能
性。假如在生产线中安装保护膜，那么在保护膜的下表面和掩膜
版的上表面之间肯定会嵌入几个颗粒杂质。由于安装保护膜是一
个比较简单的工作，又不需要昂贵和复杂的设备，因此这项工作
应该在10级的超净环境下完成，而准备安装保护膜的掩膜版应该
是刚刚清洗好的。保护膜可以同时安装在掩膜版的两个面上，提
供双重保护，可避免过多的情况，阻止进一步的沾污。
出自http://www.bjsgyq.com/北京显微镜百科