标题：精密微光学元件的设计与制作-测量金相显微镜
信息分类:站内新闻
作者:yiyi发布
时间:2013-2-14 1:37:09
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正文:
在微光学元件的制程当中，以类 LIGA 的方式制作首先必须设计
所需要的光罩，再选取适当的材料来进行激光透过石英光罩刻写出
需要的图形与深度，完成之工件进行电铸过程制作出母模，最后以
压模的方式进行元件的大量生产。一系列详细流程分别叙述如下。
光罩之设计与制作
对准分子激光光刻而言，光罩主要是用来控制激光光束的形状
和大小。激光光束透过光罩以后，再经由物镜凝聚达到足够的能量
密度，直接在基板上蚀刻出微光学元件。
由于：
光能量（U）=光通量（Φ）×时间（T）
因此我们可藉由计算激光的蚀刻深度，换算成光罩上的面积来进行
设计。计算出来的蚀刻深度再除以蚀刻比例常数就得到光罩上每单
佳长度的面积。
其中：
蚀刻比例常数=激光加工深度/光罩相对宽度
此式之蚀刻比例常数为实验所得的经验公式。我们所设计制作的微
光学元件有光栅绕射元件、角锥状反射镜、柱状镜、四分之一波片、
微透镜、以及各种非球面透镜，所以就针对上述之微光学元件而研
究设计光罩。光罩的绘图主要是用 AutoCAD 绘图软体，
出自http://www.bjsgyq.com/北京显微镜百科