点击查看产品参数和报价--丨--
---
---
---
正文:
.
超大规模集成电路的测量设备包括绝对和相对测量设备。绝对测量设
备包括美国国家标准局的光度计和激光干涉仪、美国国家标准局的扫描电
镜和激光干涉仪、带有光度计的尼康(Nikon)掩膜泓试设备和线性编码器,
它们都与基本的测试标准相结合。相对测量设备用相对标准来校准,然后
再将样品与这个棍对标准进行比较。相对测量设备包括电视系统、十字叉
丝目镜、像切
显微镜和光度计等。但不管标准制定得如何细微,不管测量
设备的分辨率如何高,泓量误差仍然始终是一个主要问题。测量误差的主
要来源是。
1. 不同的操作者对图形边缘位置的判别和聚焦好坏的判别是不同的
,
2. 在参数测量培训中的不适当培训所造成的影响I
3. 关予测量技术的先入为主的错误概念I
4. 泓量系统中的图形套不准,
5. 振动;
6. 光一光或电一光系统中能量强度、聚焦元件位置的变动。
7.电气方面的变动,
8. 测量系统相对于所用标准的非线性,
9. 由一个测量设备转移到另一个测量设备时,测量结果的互换性较
差。
在测量过程中,我们可能会遇到各种测量现象,例如邻近效应现象,
确定同一个边缘位置却存在不同的光学阈,或者根本就不清楚什么是确定
边缘位置的光学阈等等。这些现象的出现使我们认识到,为了进行线宽校
准,应该在整个被测区域内,使用许多宽度来分别测量线宽和线间距
出自http://www.bjsgyq.com/
北京显微镜百科