标题：集成电路的检验标准必须数量化检测显微镜
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作者:yiyi发布
时间:2018-10-1 0:06:17
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正文:
集成电路的检验标准必须数量化检测显微镜
在检验过程中发现的缺陷往往是可以修补的。自动检验设备可以通过
计算机和打印机指出缺陷的位置并描绘出缺陷区域。工作掩膜缺陷盼讨论
中将阐述修补缺陷的几种方法。由予掩膜上的大部分缺陷是铬(或其他掩膜
材料)上的针孔和空位，或者是玻璃板上铬的斑点，因此修补工作就变得非
常简单，往往只需在针孔或空位上加上不透明材料，或者在玻璃板上刮去
铬的斑点就可以了。
超大规模集成电路的检验标准必须数量化。临界尺寸的精度控制范围在0
．1～O．3”m之间，这取决于线宽尺寸。对2肛m线宽，其误差为±0．3斗i
n。100mm圆片．h的图形对准误差应在0．．1～0．5nm之间。每一层(层厚
约1．o“m)的致i令缺陷比例通常不能超过l～5．oA，而许多技术标准则要
求完全没有致命缺陷。掩膜的质量是通过检验来保证的。作为检验的技术
标准，应该能明确区分合格掩膜和废品掩膜。例如，某一个关于缺陷的技
术标准规定，每平方英寸(1英寸=25．4mm)不箭超过两个缺陷，每个缺陷的
直径不超过1．5斗nl。假如一块掩膜版在每平方英寸上有三个缺陷，并且
直径都大予1．融m，那么这块掩膜版就是废品，应该退回修理部门。一般
情况下，一个缺陷往往是在显微镜明场中可见的一个不透明的斑点，或是
暗场中的一个亮斑。、图7．2表示最‘普遍的一些缺陷类型。
对一套给定的掩膜建立全面检验标准时，重要的是需要弄清楚这些缺
陷可能的来源
出自http://www.bjsgyq.com/北京显微镜百科