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正文:
x射线荧光分析有两种实际应用方法,即x射线集中系统(在料流上
方)及探针系统(在料流中)。集中系统处于物料上方,可将几处矿
浆矿样输送至安装全套设备的中心,用一个单一高能激发源进行分
析。探针系统处于料流内,利用安装在料流内或者附近的传感器,
使用方便的低能激发源(通常是放射性同位素)对料流进行在线检测
。这种方法不需要将代表性矿样输送至分析设备,较为便利。放射
源与探测器装配在一起,置于一个紧凑的装置中,称为探头。
集中系统通常安装在大选厂中以连续监控不同的矿浆流,而矿
浆流少一些的小厂可安装投资较低的探头系统。
在线x射线分析系统也存在一些问题,主要问题是如何保证射
线检测的样品能代表整体料流,而且如何保证反馈射线检测到的是
该试样有代表性的部分。激发射线先通过一个塑料膜窗口,然后穿
透与该窗口接触的矿浆相互作用。反馈射线从相反的路径返回探测
器,大部分射线被深度几个毫米的矿样吸收,因此直接接触薄膜窗
口的矿浆层对分析结果的影响最大。分析的准确性和可靠性就取决
于这层矿浆是否能代表整个矿浆流。薄膜窗口表面与矿浆的相互作
用会造成此处矿浆发生离析。可以在x射线集中系统分析仪中使用
高湍流溜槽消除这种现象。将探头设置在待测主矿浆流附近,可显
著降低取样和输送的操作成本及设计的复杂性,但要注意探头
测量界面上代表性矿样须处于湍流状态。
出自http://www.bjsgyq.com/
北京显微镜百科