经电子显微镜发现溅镀时间与晶粒大小无明显相关性
信息分类:金相文章
作者:yiyi发布
时间:2011-11-30 1:06:47
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氮化钛薄膜表面，经扫描电子显微镜观察发现，溅镀时间与晶粒大小并无明显相关性。
2.溅镀时间会影响氮化钛薄膜之颜色，时间由短至长所导致的变化依序为：浅黄à金黄à深黄à紫à深蓝à浅蓝。
3.利用Alpha-Step量测后可得知，成长速率最快的溅镀条件为溅射电源800 V，偏压电源50 V，氮气量30 sccm，其成长速率为11.95 nm/min。成长速率最慢的溅镀条件为溅射电源900 V，偏压电源100 V，氮气量30 sccm，其成长速率为1.34 nm/min。
4.经EDS分析，可得知此实验所制备之薄膜，确实含有Ti以及N的成分。将溅射电源700 V、偏压电源100 V、氮气量30 sccm、溅镀时间40分钟所制备的薄膜，做EDS分析，得知，在0.5、4.5、5.0 keV的位置出现Ti的讯号，在0.4 keV则出现N的讯号，在0.6 keV与1.9 keV分别有O以及Si的讯号。
5. 经XRD分析薄膜后，得知2θ角在37.5°、43.6°、63.5°、68.8°、及78.3°的地方，分别出现(103)、(200)、(220)、(301)、及(224)等Ti2N结构的绕射峰。
6. 薄膜经阻抗分析仪在室温下，扫描频率范围为40 Hz ~ 30 MHz之间进行测量，发现介电常数会随着频率的增加，先略为下降再上升。
7. 溅射条件为溅射电源900 V、偏压电源100 V、氮气量30 sccm下所制备之氮化钛薄膜，于扫描频率1 MHz下，发现在溅镀时间为15分钟时有最大的介电常数值，183。
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