信息分类:金相文章
作者:yiyi发布
时间:2011-11-15 11:21:52
将本页加入收藏
下一篇:北京三目偏光显微镜供应
上一篇:自动双折射显微镜原理
我们实验室近年的研究主要集中在奈米结构/颗粒的製造技术、发展奈米光学显微科技、瞭解光波在奈米结构的光学特性以及这些奈米结构/颗粒在生物与光电子元件上的应用。
主要研究题目:
金属奈米电浆子之特性与量测:
在理论上利用时域有限差分法模拟光波在奈米金属夹缝间的现象,在实验上利用近场光学显微术量测光在奈米金属洞与夹缝在特定波长的异常穿透现象。在奈米夹缝部分,确认此异常穿透现象为TM偏振光在夹缝内的gap plasmons共振所造成。在週期性奈米夹缝上所出现的非发散聚焦束部分,确认为TM偏振光在出口金属表面的表面电浆共振所造成。
奈米电浆子在生医感测之应用:
无论在金属奈米夹缝间的gap plasmons或在出口金属表面的表面电浆子波,其共振效应会形成一异常穿透光谱,此异常穿透光对环境非常敏感,我们应用它们发展成一灵敏的生医或化学感测元件。
奈米结构的光罩製程科技:
次波长透明结构上会有相当程度的边缘绕射,此边缘绕射光会在结构体上造成一种次波长的光束聚焦效应,应用在光罩显影技术上可大量製作次波长结构。此技术不仅适用在大量製造光子晶体结构,连重要的夹疵(defect)结构也可以同时被製造出来。目前此技术的解析度约为λ/5,以400nm 紫光而言可约达80nm 的空间解析度,非常适用操作在可见光至近红外光波段光子晶体结构之大量製造。
奈米光学量测科技:
发展偏光调变近场光学显微术,研究材料在数十奈米尺度下的特性如发光材料之结晶性、发光特性与表面型态之关係。此技术可同时量测薄膜小于100 奈米的结晶化程度、结晶方向与表面起伏等资讯。
微型阵列晶片检测科技:
发展出一种新的光学侦测系统可以高通量与灵敏的检测微型阵列生医晶片。这个系统使用平面光学消逝波为激发源,可以有很低的背景杂讯、大且均匀的检测面积。此系统不需在生医晶片上做任何改变,一般在玻璃基材上的微型阵列皆可由此系统检测
我们发展一套利用差分近场光学显微技术的方法,可以由近场量到光场及其一次与二次微分光场,利用这些量测光场可以直接重建光学波导的折射率分佈。此方法比起之前的技术具有更好折射率重建效果,在2007年10月号的Photonics Spectrum Magazine对我们发展的技术加以介绍
我们发展一种奈米製造技术,可以大面积製造次微米的玻璃透镜阵列。此阵列大小为透镜阵列的极限,我们研究它的聚焦效果,发现此次微米玻璃透镜阵列具有良好的次波长聚焦特性,且在空间上可以形成三维的光场分佈,配合光罩蚀刻技术可以製造三维次微米结构。中央研究院选为2007年重要成果之一,以刊物加以介绍。
我们发展一种新的奈米製造技术,利用次波长透明结构体的边缘聚焦特性製造光子晶体结构及其defect pattern,此方法具有高的聚焦深宽比,同时产生週期性的光晶结构与重要的defect图桉。此技术适合应用在光罩製程技术上,直接大量製造光子晶体结构。此成果被中央研究院选为2006年成果之一。
我们研究光波在奈米金属夹缝间的的现象,首先在理论上利用时域有限差分法模拟与近场光学量测上发现不同偏振光出现截然不同的光场分布与光穿透率,显示此差异来自gap plasmon的出现。此结果受到国外光学杂志的重视,在2003 年二月号的”Photonics Spectra magazine”中,简介我们的成果。
“可进行大面积扫瞄之剪力回馈架构、利用此架构形成之近场光学显微镜”。发明人:魏培坤
合作伙伴: