标题：金相机械抛光,粗抛粒度可用5-7μm精抛用1-0.5μm
信息分类:站内新闻
作者:yiyi发布
时间:2015-10-1 22:43:30
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正文:
金相机械抛光,粗抛粒度可用5-7μm精抛用1-05μm
试样粗磨与细磨
经砂轮打平后的试样，可用下面五种方法之一来进行研磨。
（1）利用不同粒度的水砂纸，在平板玻璃上用手工磨制。
（2）利用不同粒度的水砂纸，分别放在预磨机转盘上磨制。
（3）直接使用不同粒度的磨粉，在抛光机上研磨。
（4）利用蜡盘粗磨后，再用粗粒度氧化铝粉，悬浮浇在呢绒
盘上研磨，这个方法基本上可能代替全部金相砂纸。
（5）如岩相制片一样，用中等粒度的磨料在铸铁盘上研磨。
抛光
金相试样的抛光，可用如下方法来实现。
机械抛光
机械抛光，可以是一级抛光，也可以分两级抛光，在两级抛光
的情况下，粗抛粒度可用5-7μm，精抛用1-05μm。
抛光操作，目前仍多用为手持单试样的抛光机上进行。
为了减少手工劳动，提高抛光效率，现正在向自动化方向发展
涂层材料的选择，决定于被涂材料的光学性质，应以满足其一
个相的反射率降低为零时的相位和振幅为条件，一般说来，高反
射被涂层材料要求高反射率的涂层，对低反射和强吸收性物质来
说，可以应用低反射率的涂层材料。
出自http://www.bjsgyq.com/北京显微镜百科