标题:SEM显微镜观察观察氧化亚铜表面型态

信息分类:站内新闻   作者:yiyi发布   时间:2013-6-16 19:24:47 将本页加入收藏

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正文:

SEM显微镜观察观察氧化亚铜表面型态

使用电化学沉积法在透明导电玻璃(ITO)上制备氧化锌和氧化亚铜。氧化锌电镀为两阶段制程,
使用两阶段制程不但能使晶体致密,大幅提升了穿透率,形成氧化锌为柱状晶体,
以c轴垂直基材成长,XRD结果显示多晶氧化锌镀层具有(002)优选方位。
氧化亚铜是藉由电化学沉积法于固定电流下控制反应的时间,得到氧化亚铜镀层结构。

经由XRD及XPS分析可以确定氧化亚铜为立方结构,SEM显微镜观察发现到氧化亚铜是一个致密且不具孔洞的
表面型态,并探讨氧化锌和氧化亚铜穿透率和微结构的关系

氧化锌为具有许多优越性质的直接能隙半导体材料,其应用性也相
当广泛,可应用于光电转换元件等,然而现在制程几乎都比较昂贵且制程需
在高温状态下,薄膜内部易有残留热应力存在,而电化学方法相对低成本、
低温及效率高等优点。氧化亚铜是少数可用电化学沉积制备取得的半导体材
料,其能隙约2.15 eV恰在可见光波长,可以应用在太阳能电池当阴极材料,
因此极具发展潜力,若将氧化亚铜/氧化锌/ITO结合会形成pin异质接面,
其性质值得探讨研究。











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