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正文:
纳米显微与显影科技之发展与应用
(一)新形式的管状光纤蚀刻法(improved tube-etching)可以稳定的制作出口径在数百纳米的高品质光
纤探针,配合石英震盪剪力迴授法,
建立一套多波段萤光、吸收/反射式近场光学显微系统和一套偏光调变近场光学显微系统,光学解析度皆可达 50nm。
(二)用前述之近场光学显微系统,
有机发光二极体之纳米型态特性。有机发光二极体显示器为目前最受到重视的
新一代显示器,
但其一般寿命为数千小时,我们研究目的在瞭解有机发光二极体电洞传输层微结晶之成长与环境温度的关系,
我们量测出NPB 介尺度的结晶成长,而且发现结晶的演化与表面的几何缺陷有
关。另外我们也发现在红色发光层(Alq:DCM1)中存在的相分离分佈
(Alq 与 DCM1 分离)。
(三)完成场发射型电子显微镜(LEO1530)之改良。我们使用纳米图样产生系
统(NPGS)附加于场发射型电子显微镜上使其具有纳米图样显影功能,
这样的系统对于纳米科技的应用,扮演着非常核心的角色,我们目前
显影解析度可达 50nm,写入面积达 100umx100um 以上。
(四)建立纳米光学模拟系统。针对 Maxwell 方程式,我们发展有限时域差
分法(FDTD),可对纳米光学元件的特性进行全方位的模拟。以此模拟
系统,我们可以解释在实验中量测到的不同偏光与波长之光波进入奈
米夹缝中近场与远场分佈情形
出自http://www.bjsgyq.com/
北京显微镜百科