表面粗糙度仪器设备门市,光学设备厂家-北京上光仪器有限公司

标题：表面粗糙度仪器设备门市,光学设备厂家

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表面粗糙度仪器设备门市,光学设备厂家

矽晶圆底部表面可以使用单一晶圆湿式蚀刻法来控制特定的粗糙度，对不同的背面金属化制程而言，

此法可使得表面得以被最佳化。

主因是稍微调整化学蚀刻混合物中的氧化剂量及调变制程参数，就可控制表面的性质

此外，湿式化学蚀刻也移除由机械式背面研磨制程所引起的底部矽晶圆损伤，

因此增加了晶圆与晶片的强度，而提供了整体晶圆更均匀的表面粗糙度。

　*使用到的工具和化学作用包括一台旋转处理器、

一台扫描剖面轮廓仪、

一台双束扫描式电子显微镜、以及Honeywell的Texture Etch。

出自http://www.bjsgyq.com/北京显微镜百科

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