标题:扫瞄式电子显微镜观察镀膜表面得到的结论!

信息分类:站内新闻   作者:yiyi发布   时间:2011-12-21 23:54:06 将本页加入收藏

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正文:

扫瞄式电子显微镜观察镀膜表面得到的结论!

随着材料科技的进步,新材料不断的被开发出来,由于氮化钛(TiN)制程较容易控制,外观呈适合装饰用的金黄色,
在工具的应用上又具有高硬度、耐蚀、耐磨耗的优点,因此利用阴极电弧沉积技术(Arc Ion Plating Process)被覆氮化钛,
已成为在工业发展上''使用最广泛的方法。              

本研究係利用阴极电弧沉积技术,在304不锈钢基材上被覆氮化钛,并藉由改变基材偏压(-100 V~-300 V)及氮气分压(10 mTorr~30 mTorr)等不同的制程参数,
探讨镀膜的微结构、腐蚀、硬度及其界面性质。         

 利用扫瞄式电子显微镜(SEM)观察镀膜表面,可以发现许多伴随TiN沉积过程所产生的微粒,从能量分散光谱(EDS)的分析,
则证明了微粒的成分主要是以金属钛为主。               在微结构方面,从扫瞄式电子显微镜(SEM)所拍得试片的截面照片结果中发现,
距离靶材较近处的镀膜厚度,会随基材偏压的增加而越厚,而距离靶材较远处,则是会随基材偏压的增加而得到较薄的镀膜。
而对于施加不同的氮气压力,则是随着氮气压力的增加而得到越厚的镀膜,并不受距离靶材位置的影响。

在基材及镀膜界面处所产生之界面层及其厚度亦随不同的镀着制程而改变。          
由X-ray绕射的分析结果显示(111)为氮化钛镀膜的优选方位,并不会随制程的改变而有明显的差异,而不同的制程条件出现的Ti与Ti2N的绕射结果,都是一致的。               在机械性质方面,硬度测试的结果显示,镀膜的硬度值有随基材偏压的增加以及氮气压力的减小而下降的趋势,这主要是受镀膜厚度及镀膜微结构的影响。

而在拉伸试验中则是发现不同基材偏压所沉积出的镀膜,其内应力随着基材负偏压的增加而增大;随着施加氮气压力的增加,镀膜的应力也随之增大。          

将镀着后的试片经由浓度为30﹪的硫酸腐蚀168小时后,利用光学显微镜(OM)及扫描式电子显微镜(SEM)观察镀膜表面变化情形,并发现镀膜表面并没有出现严重的腐蚀现象,显示出TiN具有良好的耐腐蚀性质。











出自http://www.bjsgyq.com/北京显微镜百科
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