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  1. ①新款升级为采用平场消色差光学系统和落射式柯拉照明系统,落射照明系统中设计防反射结构,有效防止反射光干扰成像光线,从而使升级款成像更清晰、视场衬度更好。②工作台、光强与粗微调的低位操作,使用更舒适

  2. ①新款升级为采用平场消色差光学系统和落射式柯拉照明系统,落射照明系统中设计防反射结构,有效防止反射光干扰成像光线,从而使升级款成像更清晰、视场衬度更好。②工作台、光强与粗微调的低位操作,提高了使用的舒…

  3. 广泛应用于应用于教学科研金相分析、半导体硅晶片检测、地址矿物分析、精密工程测量等领域。也可应用于电子、光纤、纺织、印刷及微颗粒、粉末、同时也可用于食品安全评估、医学研究地质研究等。是科研、教学、生产的…

  4. 广泛应用于应用于教学科研金相分析、半导体硅晶片检测、地址矿物分析、精密工程测量等领域。也可应用于电子、光纤、纺织、印刷及微颗粒、粉末、同时也可用于食品安全评估、医学研究地质研究等。是科研、教学、生产的…

  5. 在整个光学系统内,对涉及成像质量的所有组件高级配置,采用先进的无限远双重色差校正光学技术;适用于金属钢铁,化工材料行业科研,质检和质控部门等研究,反射光可实现明场,暗场,偏光,微分干涉,荧光观察功能,透射光可实…

  6. 适用于金属钢铁,化工材料行业科研,质检和质控部门等研究,反射光可实现明场,暗场,偏光,微分干涉,荧光观察功能,透射光可实现明场,暗场,偏光,微分干涉观察功能,可接CCD相机配合图像分析软件进行材料分析。

  7. 全新研发豪华配置12XB-PC,搭配U-DICR微分干涉组件,可以将明场观察下无法检测的细微高低差,转化为高对比度的明暗差并以立体浮雕形式表现出来,如LCD导电粒子,精密磁盘表面划痕等。

  8. 4XC对于外形不规则或较大的试样也可进行显微镜观察,倒置式的仪器设计,操作时试样观察表面向下,并与工作台面重合,而对试样的高度和平行度无要求,适合于外形不规则或较大的试样。

  9. WF10X(Φ22)大视野目镜,平场无限远系统金相物镜。①采用了反射和透射两种照明形式,并配有偏光装置。②在反射光照明下可进行明暗场和偏光观察,又可在透射光照明下作明场观察。③可选配摄影装置…

  10. 作为高级科研型金相显微镜,是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业开发的,可用来鉴别和分析各种金属和合金的组织结构,可广泛应用在工厂或实验室进行铸件质量的鉴定、原材料的检验或对材料处理后金…

  11. 便携式金相显微镜由于自带垂直照明光源,可以很方便的用于现场或无法制作试样时鉴别各种金属和合金的组织结构可广泛的应用在工厂,实验室进行铸件质量的鉴定,原材料检验或对材料处理后金组织的研究分析等工作,也可…

  12. 便携式金相显微镜由于自带垂直照明光源,可以很方便的用于现场或无法制作试样时鉴别各种金属和合金的组织结构可广泛的应用在工厂,实验室进行铸件质量的鉴定,原…

  13. 4XB金相显微镜用于鉴别和分析各种金属和合金的组织结构,可广泛应用在工厂或实验室进行铸件质量的鉴定,原材料的检验或对材料处理后金相组织的研究分析等。

  14. 4XI金相显微镜用于鉴别和分析各种金属和合金的组织结构,可广泛应用在工厂或实验室进行铸件质量的鉴定,原材料的检验或对材料处理后金相组织的研究分析等。

  15. 正置金相显微镜具有透、反二用功能,可作为金相、生物二用显微镜,用于观察金属、硅片等反射标本的表面结构。可在工矿实验室进行金属材料质量检验,金属零件处理后的金相组织分析

  16. 正置金相显微镜具有透、反二用功能,可作为金相、生物二用显微镜,用于观察金属、硅片等反射标本的表面结构。可在工矿实验室进行金属材料质量检验,金属零件处理后的金相组织分析

  17. 正置(明暗场)芯片检查显微镜广泛的应用于透明,半透明或不透明物质,比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹,都能有很好的成像效果。

  18. 产品用途大平台检测显微镜是专为IT行业大面积集成电路,晶片的质量检测而设计开发制造的,主体为正置式,三目镜筒,比传统的显微镜更适合于观察。适用于电子、机械、化工、科研、院校等部门,以及金相技术检验、失效…

  19. 102XB工业金相显微镜是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业需求而开发的。作为高级金相显微镜用户在使用时能够体验其超强性能,可广泛应用于半导体、FPD、电路封装、电路基板、材料、铸件/金属/陶瓷…

  20. 9XB正置金相显微镜属中型金相显微镜。本仪器造型新颖、性能良好、使用方便可靠,可供工厂、高等院校、科研机构及电子工业部门作金相、矿相、晶体、微电子等方面的试验与分析研究之用。

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